關鍵IC制造裝備國產化獲重大突破

沈陽拓荊科技有限公司承擔研制的國家02 重大科技專項暨國產12 英寸PECVD 樣機近日出廠。這是我國自主開發研制的首臺12 英寸PECVD 設備。

12 英寸PECVD 設備是國際主流薄膜沉積設備，是芯片制造過程中四種最基本、最重要的設備之一。一直以來，12 英寸PECVD 技術都被歐美以及日本等國家所壟斷。此次首臺國產12 英寸PECVD 設備順利出廠，標志著我國在集成電路高端設備研究和制造領域技術達到了國際先進水平，使我國IC 薄膜設備制造水平與國際IC 制造業主流技術水平保持同步，完善了國內半導體重要裝備的產業鏈，打破了國外產品的市場壟斷和技術壟斷，使我國有能力在IC 高端設備市場上參與國際競爭，對提升我國IC 制造裝備的自主創新能力和核心競爭力具有重要的戰略意義。

此次擁有完全自主知識產權的12 英寸PECVD 設備樣機的成功研發，使沈陽確立了在全國的集成電路裝備研發與制造領域同北京、上海三足鼎立的地位，這對調整遼沈地區傳統產業結構，創造新的經濟增長點，推動遼沈地區IC裝備制造產業化發展具有重大的意義。

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