極大規模集成電路含氟電子氣體實現國產化

　　由中國化工黎明化工研究設計院（以下簡稱黎明院）承擔的國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備與成套工藝”子項目“高純四氟化碳和六氟化硫研發與中試”日前通過國家重大專項項目組的測試與評審，標志著我國極大規模集成電路行業所需高純度含氟電子氣體實現國產化。

　　集成電路是信息社會的根基，其制造技術代表著當今世界微細制造的最高水平。隨著我國信息化進程的加快，對集成電路產品的需求持續快速增長。為實現自主創新發展，我國于2008年啟動實施集成電路專項，以推動產業應用為目標，通過市場機制打通科技與經濟的連接通道，建立以企業為主體，高校和科研院所大協作，科技、產業、金融與區域經濟有效協同的新模式。

　　高純度含氟電子氣體是極大規模集成電路行業必需的清洗和蝕刻氣體，在芯片制作過程中保障極大規模集成電路的生成，確保電路有效發揮作用。隨著極大規模集成電路技術的提升，芯片制程向14納米甚至7納米邁進，對電子氣體的純度要求越來越高。

　　黎明院于2013年開始“高純四氟化碳和六氟化硫研發與中試”的課題研究，借助國家科技重大專項平臺，潛心攻關，在多項關鍵技術上取得突破。其中高純度四氟化碳和六氟化硫制備過程中微量雜質的純化、分析等技術難題得以攻克，制備出的產品純度達99.999％，推廣使用后取得了良好的市場效果。此外，該項目在知識產權指標、人才建設、產業化指標和經費使用等多個維度也達到立項要求。黎明院也由此進一步加快了科技創新和產業化發展步伐，成功實現由工業級向高純級、多品種等高性能、高附加值產品的轉型升級和結構調整。

　　目前，黎明院高純四氟化碳和六氟化硫的年產能可達2000噸，價格與進口同類產品相當，但性價比高，可完全實現對進口產品的替代。

　　轉自：國資委網站

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